出版與印刷雜志退回來的稿件怎么修改？

當(dāng)稿件被《出版與印刷》期刊退修后，可按以下流程進(jìn)行修改，以提高錄用概率：

一、分析退稿原因

1.?仔細(xì)閱讀退稿通知：明確編輯或?qū)徃迦酥赋龅膯栴}，如選題不符、創(chuàng)新性不足、數(shù)據(jù)缺陷或語言表達(dá)問題?。

2.區(qū)分退稿類型：可修改退稿、拒稿（若意見表明“研究方向不符”，建議改投其他期刊）

二、針對性修改策略

1.深入探討研究問題，提供更全面、深入的分析和討論。

2.增加相關(guān)理論背景和文獻(xiàn)綜述，以支持研究論點(diǎn)的合理性和創(chuàng)新性。

三、重新投稿準(zhǔn)備

1.?附修改說明：逐條回應(yīng)審稿意見，說明修改內(nèi)容及依據(jù)。

2.核對期刊要求：

(一)凡向本刊投稿，來稿應(yīng)為原創(chuàng)作品，不得侵犯他人著作權(quán)。本刊編輯部依據(jù)《著作權(quán)法》對來稿有文字修改權(quán)。如作者事先無特殊聲明，稿件一經(jīng)采用，一律視為本刊擁有該稿件的印刷版、電子版和網(wǎng)絡(luò)版的使用權(quán)和分許可權(quán)。

(二)來稿應(yīng)為原創(chuàng)作品，不侵犯他人權(quán)利，不存在學(xué)術(shù)不端行為和涉密問題。

(三) 來稿應(yīng)立論明確，論述嚴(yán)謹(jǐn)，語句精練，使用國家通用語言和規(guī)范漢字，遵從國家有關(guān)計(jì)量單位、科技名詞、數(shù)字、標(biāo)點(diǎn)符號、漢語拼音等用法的標(biāo)準(zhǔn)及其他規(guī)范性文件。

(四) 來稿應(yīng)包括中英文題目、摘要、關(guān)鍵詞、正文和參考文獻(xiàn)。正文序號可分若干層（一、……（一）……1.……（1）……）。參考文獻(xiàn)著錄采用“順序編碼”制。論文署名方式悉聽作者尊便，但有必要向編輯部提供真實(shí)姓名、工作單位、聯(lián)系方式等信息。

(五)引文超過150 字換行另起；上下各空一行；第一行縮進(jìn)4 格，以下各行縮進(jìn)2 格。夾注置于最后一個標(biāo)點(diǎn)符號之后。引詩超過8 行換行另起，規(guī)則同上。

(六)論文所引文獻(xiàn)的注釋必須規(guī)范，準(zhǔn)確標(biāo)明作者、文獻(xiàn)名稱、出版社或出版物的名稱、出版或發(fā)表的時(shí)間、頁碼等。注釋一律采用腳注方式，注釋序號使用1、2、3……標(biāo)示，每頁單獨(dú)排序。

(七)請?jiān)诟寮詈蟾缴夏男彰⒐ぷ鲉挝弧⒙?lián)系電話、郵箱、通訊地址、郵政編碼，以便及時(shí)聯(lián)系。

(八)中文摘要包括“研究背景、目的、方法、結(jié)果和結(jié)論”5個要素，內(nèi)容盡可能詳細(xì)，即應(yīng)寫出論文的重要研究背景，主要研究目的，解決問題的主要方法、過程及主要結(jié)果和結(jié)論，重點(diǎn)描述研究中的創(chuàng)新內(nèi)容。

(九)來稿如為各種基金項(xiàng)目資助文章，按照國家有關(guān)部門正式規(guī)定的名稱填寫基金項(xiàng)目名稱，并注明項(xiàng)目編號。

(十)本刊審稿周期為一個月。本刊編輯部會在規(guī)定時(shí)間內(nèi)告知審稿結(jié)果，稿件一經(jīng)錄用，請勿再投他處。對于已經(jīng)錄用的稿件，若不能及時(shí)刊發(fā)，根據(jù)作者要求，本刊編輯部可以開具“稿件錄用證明”以及通過官網(wǎng)和中國知網(wǎng)優(yōu)先出版。不擬刊用的稿件，除手書原稿外一般不退，請作者自留底稿。來稿如涉及保密事項(xiàng)，概由作者本人負(fù)責(zé)。

綜上所述，通過不斷地修改和完善，提高稿件的質(zhì)量和學(xué)術(shù)水平，增加被期刊錄用的機(jī)會。

《出版與印刷》是一本在工業(yè)領(lǐng)域具有較高影響力的學(xué)術(shù)理論期刊，于1990年創(chuàng)刊，由上海市教育委員會主管，上海出版印刷高等專科學(xué)校主辦，為雙月刊，國內(nèi)統(tǒng)一刊號為CN：31-1643/TS，國際標(biāo)準(zhǔn)刊號為ISSN：1007-1938。

該刊設(shè)置了專稿、卷首語、一流期刊建設(shè)、融合出版、國際化發(fā)展、期刊評價(jià)和倫理建設(shè)等欄目，覆蓋工業(yè)領(lǐng)域多個研究方向，以反映工業(yè)領(lǐng)域的最新動態(tài)和發(fā)展趨勢。

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