收藏雜志
- 主辦單位：Shanghai University
- 主管單位：Shanghai Municipal Education Commission
- 國際刊號：1006-6330
- 國內刊號：31-1436/O1
應用光學雜志創(chuàng)刊于1980年，辦刊以來，融指導性、實用性、知識性于一體，發(fā)行周期為：雙月刊，經過雜志社調整，不斷提高了刊物的整體質量，在行業(yè)內有一定的影響。
應用光學雜志辦刊宗旨：是促進學科發(fā)展，繁榮學術交流，目前開設的欄目有：光電系統(tǒng)工程（含軍用光學）、光電信息獲取與處理、光學計量與測試、夜視技術、光學元件與制造、激光應用技術、光纖應用技術等。
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(五)稿件應在首頁以腳注形式注明作者中文姓名、工作單位、學位、職務或職稱、研究方向、通信地址、郵政編碼、聯(lián)系電話(宅電、單位電話、手機)、電子郵箱等。
作者：何蘭 韓伯順 楊永建
作者：駱瑋平 張振宇
作者：朱嫣珺 姚奕榮
作者：胡海平 葉卉芳
作者：Kumsa Boka 劉偉 汪志鳴
作者：張婧 楊永建
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作者：程晉 顧桂定 馬和平
被引次數(shù)：指該刊被當參考文獻的引用次數(shù)，以及被下載次數(shù)。
影響因子：指該刊在某年被全部源刊物引證該刊前兩年發(fā)表論文的次數(shù)，與該刊前兩年所發(fā)表的全部源論文數(shù)之比。
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